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华科大团队成功研发计算光刻EDA软件！该校机械学院刘世元教授团队成功研发我国首款完全自主可控的OPC（光学临近校正）软件，填补了我国在该领域的空白。相关成果正在做集成与测试，并到芯片生产厂商做验证。
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华科大团队成功研发计算光刻EDA软件！该校机械学院刘世元教授团队成功研发我国首款完全自主可控的OPC（光学临近校正）软件，填补了我国在该领域的空白。相关成果正在做集成与测试，并到芯片生产厂商做验证。

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谁说离开外国公司就设计不出芯片的！在日前华为举行的硬、软件工具誓师大会上，华为轮值董事长徐直军表示，华为芯片设计EDA工具团队联合国内EDA企业，共同打造了14nm以上工艺所需EDA工具，基本实现了14nm以上EDA工具国产化，2…

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，中国方面在力推"国产替代"，努力实现关键技术国产化，EDA软件也被列为重点。鉴于 #EDA 软件 所需的高昂研发成本，中国软件厂商若想达到新思科技S、铿腾电子、西门子Mentor"三巨头"的水准，不仅仅需要多年的时间，还需要逾越…

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“九章三号”光量子计算原型机研制成功

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【徐直军：华为已攻克部分自主替代关键环节】华为在PCB、CAD、EDA三大工具软件上均取得重大突破，其中EDA已完成14nm以上工艺的国产化。

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#EDA，芯片工业最难追赶部分，中国被美国制裁了。EDA行业规模不算大，大概有143亿美元左右，但EDA是护城河极深的全球价值链。美国最终规定，对设计GAAFET结构集成电路所必须的EDA软件；金刚石和氧化镓为代表的超宽禁带半导体…

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冷知识：二十世纪60年代我国开始布局研发光刻机，那时，荷兰光刻机制造巨头 ASML还没有成立。二十世纪七十年代，中国科学院开始研究计算机辅助光掩模工艺。一九七二年武汉三厂编拟工业生产指南“光刻掩版制造”。1977年，中国科学院化学…

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韩国科研团队宣布成功合成首个室温（常温）常压超导体LK-99后，多国实验室相继进行了复现试验。北京大学研究团队星期二（8月8日）发布的一篇论文称，所合成出的与韩国团队论文主成分一致的LK-99材料，不具备超导性。

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简单来说，就是使用该技术制造7nm以下的高端芯片，不需要EUV光刻机了，生产成本将远…

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